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光学真空镀膜机清洗需要注意事项

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真空工艺进行前应清洗真空材料,从工件或系统材料表面清除污染物;光学真空镀膜机设备零部件的表面清洗处理也是很有必要的,因为由污染物所造成的气体、蒸气源不仅会使真空系统不能获得所要求的真空度。而且由于污染物的存在,同时也会影响真空部件连接处的强度和密封性能。

污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”,多弧离子镀膜机根据污染物的物理状态可分为固体、气体及液体,它们以膜或散粒形式存在。就其化学特征来看,它可以处于离子态或共价态,可以是无机物或有机物。

暴露在空气中的表面最易受到污染,污染的来源有多种,最初的污染通常是表面本身形成过程中的一部分。吸附现象、化学反应、浸析和干燥过程、机械处理以及扩散和离析过程都使各种成分的表面污染物增加。比较常见的真空材料表面上的污染物具体有以下几种类型。

①油脂:加工、装配、操作时沾染上的润滑剂、切削液、真空油脂等;

②水基类:操作时的手汗、吹气时的水汽、唾液等;

③表面氧化物:材料长期放置在空气中或放置在潮湿空气中所形成的表面氧化物;

④酸、碱、盐类物质:清洗时的残余物质、手汗、水中的矿物质等;

⑤抛光残渣及环境空气中的尘埃和其它有机物等。

清洗后的表面根据要求分为原子级清洁表面和工艺技术上的清洁表面两类。

前期到位的清洗工作可以减少很多麻烦,避免溅控溅射镀膜机很多小问题的发生,对工作效率、光学真空镀膜机设备镀膜质量都具有非常积极的作。可大大提高真空系统中所有器壁和其它组件表面在各工作条件下的工作稳定性。这些工作条件包括:高温、低温、以及电子、离子、光子或重粒子的发射和轰击。


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