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磁控溅射光学镀膜机应用以及未来发展

磁控溅射光学镀膜机

        磁控溅射光学镀膜机广泛应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。 该系列设备主要是使用直流(或中频)磁控溅射,可适应广泛镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料, 可以利用溅射工艺进行镀膜,可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。
 

磁控溅射光学镀膜机
 

        可利用时间精准控制薄膜厚度,达到设计工艺要求,节省晶控,光控环节,为客户省去大量的膜厚仪耗材;可生产高折射率氮化薄膜,提高薄膜硬度性能;低温成膜,可应对各种用途;自动调节气体流量专利装置,保持稳定的靶电压,保证成膜品质;可选校正板外部调节机构。 溅射沉积系统在侧壁上装有多个圆柱形靶材,以提高沉积速率和多层涂层,该系统配备有直流脉冲或射频功率圆形阴极,垂直安装的基板和圆柱形阴极可最大程度地减少涂层过程中的颗粒污染。AR 膜(基材玻璃透过率>91.5%),420-680nm波段,单面平均透过率>95%,反射率小于0.5(平均值)% ;双面平均透过率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;颜色膜或渐变色膜: 以客户样板为准,连续五炉随机位置装片或满炉,颜色色差1.2;水煮测试:水煮 80℃30min,3M 百格测试(1*1mm)后大于 4B。
       我国的光学和光电子行业在产能扩充和技术更替中需要大量的中高端磁控溅射光学镀膜机。而相关元器件研发过程中,及时的工艺创新和相应的装备支持也是整个行业技术创新的基石和可持续发展的基本战略。我国已在精密机械、真空技术、光电子技术和光机电自动化控制等领域开展了大量的研究工作,获得了长足的技术进步,并形成了完善的产业集群,这些是研制高端磁控溅射光学镀膜设备的重要基础。如果磁控溅射光学镀膜装备领域能牵引光机电、真空机械、薄膜工艺等领域的协同创新,共同研制出属于我们自己的高端磁控溅射光学镀膜机,将进一步加速我国光学和光电子行业的发展。因此,也建议该领域能得到国家和地方更多的重视与投入。

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