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  • 光学镀膜机

双层单开门高真空烤箱

本设备由两层腔室、温度控制系统、热风循环系统,电气控制系统、安全保护系统等组成 箱体精密加工,真空检漏测试 保温层厚度:100mm 隔温效果好; 极大减少了内腔热量的散失。 电

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本设备由两层腔室、温度控制系统、热风循环系统,电气控制系统、安全保护系统等组成
箱体精密加工,真空检漏测试
保温层厚度:100mm, 隔温效果好; 极大减少了内腔热量的散失。
电加热器:采用耐高温不锈钢发热管
保护装置:超温保护器,欠相保护,过电流保护,三色报警指示灯,接地保护,漏电保护。
 
设备型号 温度范围(℃) 温度均匀性(℃) 加热功率
(kw)
工作电压
(v)
真空度
(pa)
漏率
(pa/h)
工作室尺寸(h*w*d)mm 外形尺寸
(h*w*d)mm
HOKX-201A 85-200 ±3 30 380 10 10 650*800*1000*2 1980*1625*2080

设备结构:
保温层厚度:100mm
产品烘焙方式:根据客户需求直接放置在内胆上或放置在托盘上烘烤;
开门方式:单开门x2
控制箱位置:右侧(可拆卸)

设备功能:
加热方式:内外双热源、双循环主副双重控制;
降温方式:外置冷风机组,快速冷却

工艺参数:
极限真空:空载≤10pa
真空泄露率(空载):抽至极限真空后保持1h,漏率≤20pa;
工作温度范围:常温-105℃
控温精度:±0.2℃
温度均匀性:±3℃
升温时间:
普通烤箱 空载≤45min 满载≤240min
高真空烤箱空载≤45min 满载≤150min
降温时间:
普通烤箱≤8-12H (自然冷却)
高真空烤箱≤3-4H(外置冷却机组)

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